Misurazioni simultanee, in tempo reale e senza preparazione del campione, delle emissioni di decine di composti PFAS .
Tra l’ampia varietà di contaminanti molecolari aerodispersi (AMC), che devono essere monitorati sistematicamente durante i processi di produzione dei semiconduttori, le sostanze perfluoroalchiliche e polifluoroalchiliche (PFAS) sono sempre più di interesse a causa del loro impatto negativo sull’ambiente e sulla salute umana.
I PFAS sono parte integrante del processo di produzione dei semiconduttori, grazie alle loro proprietà uniche come durabilità, resistenza alla corrosione e stabilità termica. Data sia l’importanza della produzione di chip di alta qualità sia la crescente preoccupazione per i PFAS, è fondamentale trovare modi efficienti per comprendere e mitigare le emissioni legate alla produzione di questi semiconduttori.
Le soluzioni AMC di TOFWERK sono estremamente sensibili e versatili; la tecnologia all’avanguardia consente di misurare le emissioni di decine di questi composti simultaneamente, in tempo reale, senza preparazione del campione e con straordinaria precisione. Un singolo analizzatore può fornire una grande quantità di informazioni sulle emissioni di PFAS nell’aria, anche a concentrazioni di parti per trilione (pptv), offrendo agli utenti una visione senza precedenti sulle fonti di questi composti.
